カリキュラムモデル
分類番号 E203-006-2
訓練分野 | 電気・電子系(E) |
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訓練コース | 半導体製造装置 |
訓練対象者 | 半導体デバイスの設計・製造に従事する者 |
訓練目標 | 半導体製造装置の原理から構成、現状、課題等について習得する。 |
教科の細目 | 内容 | 訓練時間(H) |
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1.洗浄装置 | (1)洗浄の基本シーケンス (2)洗浄装置とその分類 |
2 |
2.酸化装置 | (1)酸化装置の基本構成 | 2 |
3.拡散装置 | (1)不純物拡散の実際と装置 | 2 |
4.イオン注入装置 | (1)イオン注入装置の分類 (2)イオン注入装置の構成 |
2 |
5.アニール装置 | (1)アニール装置の分類 (2)ランプアニール装置とその構成 (3)RTP装置 |
2 |
6.CVD装置 | (1)CVD装置の分類 (2)APCVD (3)LPCVD (4)PECVD |
2 |
7.PVD装置 | (1)PVD装置の基本原理 (2)PVD装置の分類 |
2 |
8.エッチング装置 | (1)ドライエッチング装置の分類 (2)ドライエッチング装置の構成 (3)ウエットエッチング装置の分類 (4)ウエットエエッチング装置の構成 |
2 |
9.リソグラフィ装置 | (1)露光装置の諸方式 (2)露光装置各論 (3)ステッパの構成 |
2 |
訓練時間合計 | 18 |
使用器具等 | VTR(ソフト) |
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